关于254nmUV杀菌器在EDI膜堆前后置的问题

关于254nmUV杀菌器在EDI膜堆前后置的问题

如果254nmUV加在EDI前面，反渗透设备的前面，主要目的防止EDI模块的微生物污染，但是UV杀菌器工作期间有可能产生氧化性物质对EDI膜堆产生副作用，这方面都没有明确优劣结论。

以本人经验而言，其保护作用和副作用其实都很微弱，心理安慰远大于实际作用。

如果安装在EDI膜堆之后，虽然避免了氧化副作用产生的可能，但是其实对防止管路末端微生物污染回游的情况作用也相对有效，也还是装一个吧，聊胜于无。

至于18M超纯水工艺中EDI膜堆前的185nmUV-TOC脱除器，主要是为了终端TOC指标的控制，配合抛光混床前的二级185nmUV-TOC脱除器，两者协同作用，是相当有必要添加的，当然氧化物质可能产生的副作用也是客观存在，不过是低风险的。

无论是254nmUV杀菌器还是185nmUV-TOC脱除器，当此类设备前置或与泵前后相连时，一定也特别注意水锤问题的保护，防止水锤对此类设备破坏情况发生，一般不要直连，稍微转个弯情况就会有所好转，其次相应的防水锤装置及程控（水泵延时启停等）配套上去即可。